一、产品概述：
VGF坩埚是应用于垂直梯度凝固法（VGF）技术中的一类坩埚。目前，VGF技术作为单晶生长的热门技术，是微光电子和半导体产业生长GaAs单晶和InP单晶的良好选择。
二、主要特点：
1.可制作大规格坩埚（最大直径8inch，最大高度18inch）；
2.纯度>99.99%
3.使用次数多(具有优异的层间结构)。
三、产品应用：
应用于原位合成GaAs、InP等半导体单晶